汕头专业金相研磨机制样

开裂

发生在脆性样品和多相样品中的断裂称为开裂。当加工样品的能量超过样品所能吸收的能量时，多余的能量就会促使开裂。

应对措施：

● 切割：必须选择适当的切割轮，并应使用较低的送进速度，必要时采取线切割技术。

● 镶样：避免对脆性材料或样品进行热压镶样，优先使用冷镶嵌。

● 磨样：，粗磨时避免使用大的压力。

虚假孔隙率

有些样品本身即带有孔隙，如铸造金属、喷涂层或者陶瓷等。因此，重要的是如何获得准确的数据，避免由于制样错误导致数据错误。软质材料和硬质材料的结果有所不同。

应对措施：

● 易延展的软材料可轻易地变形。因此，孔洞可能被存在污迹的材料覆盖。检验可以显示孔隙百分比过低。

● 硬质、脆性材料的表面在***机械制备步骤中易于断裂，因此相对于实际情况呈现的孔隙率越高。

● 每两分钟使用显微镜检查试样一次，每次检查相同区域，以确保是否存在改进

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金相是什么？      

 金相即金相学，就是研究金属或合金内部结构的科学。不仅如此，它还研究当外界条件或内在因素改变时，对金属或合金内部结构的影响。所谓外部条件就是指温度、加工变形、浇注情况等。所谓内在因素主要指金属或合金的化学成分。金相组织是反映金属金相的具体形态，如马氏体，奥氏体，铁素体，珠光体等等。

什么是金相抛光？

在制备金相试样过程中,抛光是一道主要工序,经过磨光的试样,在抛光机上抛光后可获得光亮如镜的表面.

能改善表面层金相组织状态，提高表面显微硬度，形成耐磨损、抗疲劳的致密金属层。 湖北纯进口金相研磨机诚信为本深圳市新则兴科技-专业一体化的金相服务，期待您的咨询。

一、研磨1.将水磨砂纸浸湿，平放在研磨盘中。

2.打开左盘水开关，并调整好水流。

3.开电源开关，金相磨抛机研磨逆时针方向旋转。  4.将切割好的试样用力持住，并轻轻靠近砂纸，待试样和砂纸接触良好并无跳动时，可用力压住试样进行研磨。                                                         5.力度大约在不使研磨面因摩擦过热而烧伤组织为佳（大约2kgf）。

二、抛光  

1.将带压敏胶的抛光组织物粘贴在抛光盘上。如果是自制的抛光织物，则应平铺于抛中。

2.将外圈压在抛光盘外圆上，从而固定住无压敏胶的抛光织物。

3. 将调制好的抛光剂涂于织物上。  

4. 打开金相磨抛机电源开关，使抛光盘转动，将研磨好的试样用力持住，并轻轻靠近抛盘，蕞初先 将试样按向抛光盘的中心位置，边抛光边向外平移试样。 5.操作中感觉织物粘性很大时，应将抛光剂再调稀些。

6.抛光织物有破损时，应及时更换，以免损坏试样。

金相研磨**砂纸以精选的、粒度均匀的、磨削效果较好的碳化硅磨粒为磨料，采用静电植砂工艺制造出的金相**耐水砂纸，具有磨粒分布均匀、磨削锋利、经久耐用的特点。从而使样品的磨除速度快、变形层浅，对高硬或较硬的材料效果尤为明显。所有粗磨和精磨工序均可实现水磨化，彻底根除了用普通金相砂纸时样品被磨糊、灰尘大等弊端，由于金相砂纸有诸多优桌，在模具加工（抛光）和其他高光洁度的加工中也经常使用。深圳市新则兴科技有限公司提供全套进口的研磨耗材、砂纸、抛光液等，同时提供自动、手动单双盘的研磨机供您选择，欢迎您的垂询，如需耗材试样请您联系我们。

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研磨抛光常见缺陷及应对措施---

1、划痕

划痕即是样品表面上的线性凹槽，是由研磨粒子造成的。

应对措施：

● 确定在粗磨后，试样座上所有样品的表面都均匀地布满同样的 磨痕花样；

● 必要时重新进行粗磨；

● 每一道步聚后均应仔细清洁样品和试样座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子对磨/抛用具的干扰；

● 如果在现行的抛光工序后仍有前面工序留下的磨痕，请先增加 25~50%的制样时间。

2、褶皱

样品较大区域发生的塑性变形称为褶皱，当不恰当地使用研磨料、润滑剂或抛光布时，或者它们的搭配不合适，都将使研磨料象钝刀一样作用在作品表面，推挤表面，致使出现皱褶。

应对措施：

● 润滑剂：检查润滑剂的用量。润滑剂量太少时常发生推挤，必要时应加大润滑剂用量。

● 抛光布：由于抛光布的高回复性，研磨料会被深深压入抛光布的底部而无法起到研磨作用。请参照61页上的表来更换回复性差的抛光布。

● 研磨料：金刚石的颗粒尺寸可能太小，致使无法压入样品进行研磨。请使用大颗粒研磨料。

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一、机械抛光：在专门的抛光机上进行抛光。机械抛光主要分为两个步骤：粗抛和精抛。

粗抛：目的是除去磨光的变形层。

以往粗抛常用的磨料是粒度为10-20μm的α-Al2O3、Cr2O3或Fe2O3，加水配成悬浮液使用。目前，高性能极似天然金刚石悬浮液DS001或高性能人造金刚石悬浮液DS002磨料已逐渐取代了氧化铝等磨料，因其具有以下优点：

1)与氧化铝等相比，粒度小得多的金刚石磨粒，抛光速率要大得多，例如4~8μm金刚石磨粒的抛光速率与10~20μm氧化铝或碳化硅的抛光速率相近；

2)表面变形层较浅；

3)抛光质量比较好。

精抛：又称终抛，目的是除去粗抛产生的变形层，使抛光损伤减少到比较低。

常用的精抛磨料为MgO及γ-Al2O3，其中MgO的抛光效果比较好，但抛光效率低，且不易掌握；γ-Al2O3的抛光速率高，且易于掌握。 汕头专业金相研磨机制样

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